高分辨率掃描電鏡是電子顯微鏡的一種，其原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數進行形貌觀察，同時利用電子激發出樣品表面的特征X射線來對微區的成分進行定性定量分析，是我們材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。掃描電鏡按照電子槍分類可以分為鎢(W)燈絲、六硼化鑭(LaB6)燈絲、場發射三種，場發射掃描電鏡相比于鎢燈絲、六硼化鑭，具有電子束斑小、高分辨率、穩定性好等特點。
 

　　高分辨率掃描電鏡的檢測范圍：
 

　　1.金屬、陶瓷、高分子、礦物、半導體、紙張、化工產品的顯微形貌觀察及材料的晶體結構、相組織分析；
 

　　2.各種材料微區化學成分的定性定量檢測；
 

　　3.粉末、微粒、納米樣品形態觀察和粒度測定；
 

　　4.機械零件與工業產品的失效分析；
 

　　5.鍍層厚度、成分與質量測定；
 

　　6.生物、醫學和農業等領域。
 

　　高分辨率掃描電鏡的基本構造：
 

　　1.電子槍：也稱電子源，產生連續不斷的穩定的電子流。場發射電子槍與普通鎢絲電子槍有所不同，陰極呈桿狀，在它的一端有個極鋒利的尖點(直徑小于100nm)，頂端的電場*，電子直接依靠“隧道”穿過勢壘離開陰極，由加速電壓加速產生高速電子流飛向樣品。一般來說，掃描電鏡加速電壓通常為1-30kV。
 

　　2.電子透鏡：將從電子槍發射出來的電子匯聚成直徑最小為1-5nm電子束。
 

　　3.掃描系統：使電子束作光柵掃描運動。